专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：光刻技术用防尘薄膜组件专利类型：发明专利发明人：白崎享
申请号：CN201310726595.4申请日：20131225公开号：CN103901716A公开日：20140702
摘要：本发明提供一种光刻技术用防尘薄膜组件，在防尘薄膜组件的处理中，即使在因防尘薄膜的张力下降导致防尘薄膜松弛的情况下也不会使防尘薄膜受到损伤。本发明是一种光刻技术用防尘薄膜组件，其具有防尘薄膜和防尘薄膜组件框架，所述防尘薄膜绷紧设置于所述防尘薄膜组件框架的上端表面，其特征在于，绷设有所述防尘薄膜的所述防尘薄膜组件框架的膜侧内切削面的角度小于45度，更优选所述防尘薄膜组件框架的膜侧内切削面的角度为10度至30度。
申请人：信越化学工业株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京泛华伟业知识产权代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
