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一种晶圆的研磨方法[发明专利]

来源:九壹网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种晶圆的研磨方法专利类型:发明专利

发明人:徐晓林,董美丹,阳小芮申请号:CN202010472100.X申请日:20200529公开号:CN111584417A公开日:20200825

摘要:提供一种晶圆的研磨方法,所述晶圆包括一功能面和与所述功能面相对的背面,其特征在于,所述研磨方法是在所述晶圆的所述功能面上贴覆一硬质保护层后,研磨所述晶圆的所述背面以去除所述晶圆的部分厚度,并经紫外光光照以分离所述硬质保护层后,以完成所述晶圆的研磨。

申请人:上海凯虹科技电子有限公司

地址:201612 上海市松江区出口加工区三庄路18弄1号

国籍:CN

代理机构:上海翼胜专利商标事务所(普通合伙)

代理人:翟羽

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