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基于介质集成悬置线和高介电材料的电容结构

来源:九壹网
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明

(21)申请号 CN2018109632.6 (22)申请日 2018.08.23 (71)申请人 电子科技大学

地址 610000 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

(10)申请公布号 CN109166729B

(43)申请公布日 2020.05.12

(72)发明人 马凯学;王勇强

(74)专利代理机构 成都行之专利代理事务所(普通合伙)

代理人 李朝虎

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

基于介质集成悬置线和高介电材料的电容结构

(57)摘要

本发明公开了基于介质集成悬置线和高介

电材料的电容结构,包括介质集成悬置线的多层结构,所述多层结构中的一层或多层设置为高介电材料层;所述高介电材料层上设置空腔,且空腔内设置与空腔形状匹配的高介电材料;与高介电材料层相邻的介质层朝向高介电材料层的面上设置金属板。本发明基于介质集成悬置线和高介电材料的电容结构,通过设置上述结构,可以实现在不增大面积的情况下,对电容容值进行调

整,从而减小了模块体积,避免了额外的寄生效应的影响。

法律状态

法律状态公告日

2019-01-08 2019-01-08 2019-01-08 2019-02-01 2019-02-01 2020-05-12

法律状态信息

公开 公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

法律状态

公开 公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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说明书

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