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专利名称：衬底台、光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法专利类型：发明专利
发明人：兼子毅之,J·J·奥腾斯,R·W·L·拉法瑞申请号：CN201110042165.1申请日：20110217公开号：CN102162999A公开日：20110824
摘要：本发明公开了一种衬底台、光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法。所述衬底台包括：位于所述衬底台上的编码器板；在所述编码器板与所述衬底台的顶部表面之间的间隙，所述间隙相对于所述衬底台的外周位于所述编码器板的径向向内的位置处；以及在所述间隙的所述表面中的具有一个或更多个开口的流体抽取系统，用于从所述间隙抽取液体。
申请人：ASML荷兰有限公司
地址：荷兰维德霍温
国籍：NL
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：王波波
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