版图设计方法以及版图设计单元集合

（12）发明专利说明

（21）申请号 CN201510005136.6 （22）申请日 2015.01.06

（71）申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

（10）申请公布号 CN105826315B

（43）申请公布日 2019.02.12

书

（72）发明人 张弓

（74）专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司

代理人 高静

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

版图设计方法以及版图设计单元集合

（57）摘要

本发明提供一种版图设计方法和版图设计

单元集合，所述版图设计单元集合包括:第一、第二、第三、第四、第五单元，所述第一单元至第五单元依次排列构成用于形成SRAM单元的初始版图，所述SRAM单元包括由多个鳍部图形和第一总栅条图形、第二总栅条图形形成的第一、第二上拉晶体管、第一、第二下拉晶体管和第一、第二栅传输晶体管，本发明版图设计单元集合还包括第一插入单元，所述第一至第五单元以及第一插

入单元能够组成SRAM单元版图，通过调节SRAM单元版图中设置的第一插入单元数量，能够调节所形成的SRAM单元版图中上拉晶体管、下拉晶体管和传输栅晶体管的沟道区宽长比之间的比例，从而能够便地进行多种不同性能的SRAM单元设计，简化SRAM单元的设计步骤。

法律状态

法律状态公告日2016-08-03 2016-08-03 2016-08-31 2016-08-31 2019-02-12

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

法律状态

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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说明书

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