用于光刻胶的曝光后烘焙的方法和设备

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN200680018005.0 （22）申请日 2006.04.29 （71）申请人 奇梦达股份公司

地址 德国慕尼黑

（10）申请公布号 CN101203809A

（43）申请公布日 2008.06.18

（72）发明人 K·埃里安;M·塞巴德

（74）专利代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司

代理人 余刚

（51）Int.CI

G03F7/20; G03F7/38;

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

用于光刻胶的曝光后烘焙的方法和设备

（57）摘要

在用于对化学增强光刻胶层进行图样化的

方法中，在衬底上提供光刻胶层，光刻胶层包括具有第一溶解度的第一状态的光刻胶分子。将光刻胶层的预定区域暴露到第一辐射中，以在光刻胶层的所暴露的预定区域中生成催化物。将光刻胶层暴露到第二辐射中，并将光刻胶层的预定区域中的光刻胶分子从第一状态转换到具有第二溶

解度的第二状态，光刻胶分子的转换通过催化物来催化，以及光刻胶分子的催化转换的活化能通过光刻胶分子中对第二辐射的吸收来降低。用预定的显影剂来显影光刻胶层。

法律状态

法律状态公告日

2008-06-18 2008-08-13 2010-08-25

法律状态信息

公开

实质审查的生效

发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态

公开

实质审查的生效

发明专利申请公布后的视为撤回

权利要求说明书

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说明书

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