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专利名称：利用两亲嵌段共聚物选择性溶胀成孔制备减反射膜
的方法
专利类型：发明专利发明人：汪勇,童灵
申请号：CN201110367591.2申请日：20111118公开号：CN102516583A公开日：20120627
摘要：本发明公开了一种利用选择性溶胀嵌段共聚物成孔制备减反射膜的方法，该方法简单易行。该方法主要是利用“选择性溶胀成孔”技术，将聚苯乙烯和聚2-乙烯基吡啶的嵌段共聚物溶解在有机溶剂中，再旋涂于基底上，使溶剂挥发，在溶剂挥发过程中嵌段共聚物发生微相分离，再将基底浸泡溶胀剂中使聚2-乙烯基吡啶嵌段由于溶剂化作用而发生溶胀，然后再脱除溶胀剂，脱除溶胀剂后，溶胀的聚2-乙烯基吡啶嵌段分子链塌陷成孔，从而得到具有减反射效果的多孔减反射薄膜。另外通过调节涂膜转速、溶液浓度以及溶胀时间，减反射膜能实现可见光区和红外光区平均增透4％，在特定波段能达到最大透过率＞97％。
申请人：南京工业大学
地址：210009 江苏省南京市新模范马路5号
国籍：CN
代理机构：南京苏科专利代理有限责任公司
代理人：郭百涛
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