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在电镀槽内均匀喷流电镀液的电镀装置[实用新型专利]

来源:九壹网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:在电镀槽内均匀喷流电镀液的电镀装置专利类型:实用新型专利发明人:詹前灿

申请号:CN2010205054.3申请日:20100826公开号:CN201785520U公开日:20110406

摘要:本实用新型提出一种可用于单片小尺寸电镀件(4”~12”)在电镀槽内均匀喷流电镀液的电镀装置,用以电镀至少一电镀件,该电镀件电连接于一阴极端,包含:至少一电镀液喷流嘴,对应该电镀件中心线位置设置;及一阳极遮蔽板,具有至少一中心开孔及环绕该中心开孔的多个第一分流开孔,且各个第一分流开孔面积小于该中心开孔面积;该阳极遮蔽板设置于该电镀件与该电镀液喷流嘴间,而使该中心开孔的中心线位置对应该电镀件与该电镀液喷流嘴的中心线位置。由此,可有效遮蔽高电流区域分布,使电镀件表面膜厚分布更为平均。同时,对于后段蚀刻制程亦得有效提高良率。

申请人:元旸工业有限公司

地址:中国桃园县

国籍:CN

代理机构:北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司

代理人:孙皓晨

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