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专利名称：曝光装置专利类型：发明专利发明人：关家一马
申请号：CN201710046251.7申请日：20170122公开号：CN107015442A公开日：20170804
摘要：提供一种曝光装置，使曝光装置低成本。该曝光装置包含光源(3)、照明光学系统(4)、掩模以及投影光学系统(5)，掩模构成为形成有多个小掩模(60A～60D)，该小掩模(60A～60D)由将构成1个器件的图案分割成多个区域而得的小图案构成。投影光学系统(5)由与小掩模(60A～60D)对应的大小构成，小图案被缩小投影在基板上。不需要由要求像差的精度的、价格高昂的透镜构成的投影光学系统，能够使用由投影面积小的像差的影响少的小型的透镜构成的投影光学系统，能够低成本地提供曝光装置。
申请人：株式会社迪思科
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京三友知识产权代理有限公司
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