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专利名称：格栅和制造用于选择性透射电磁辐射特别是X-射线
辐射的格栅的方法
专利类型：发明专利
发明人：G·福格特米尔,R·多沙伊德申请号：CN200980130034.X申请日：20090806公开号：CN102113060A公开日：20110629
摘要：提出了一种用于选择性透射电磁辐射的格栅(1)和制造该格栅的方法。其中，所述格栅(1)包括具有壁(3)的结构元件，所述结构元件包括辐射吸收材料的多个颗粒(19)，其中，所述颗粒(19)烧结在一起，使得在相邻颗粒(19)之间存在孔隙(21)。所述孔隙(21)至少部分填充有第二固态材料。孔隙(21)的填充能够通过将第二材料引入孔隙中中实现，第二材料为液态的，优选地为熔融形式。第二材料本身也能够是辐射吸收的，且可以有助于提高格栅的机械稳定性并增强辐射吸收性质。
申请人：皇家飞利浦电子股份有限公司
地址：荷兰艾恩德霍芬
国籍：NL
代理机构：永新专利商标代理有限公司
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