专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：一种用于砷化镓晶片的精抛液专利类型：发明专利
发明人：仲跻和,李家荣,周云昌,高如山申请号：CN200610014416.4申请日：20060623公开号：CN101092542A公开日：20071226
摘要：一种用于砷化镓晶片的精抛液，由磨料、表面活性剂、pH值调节剂、螯合剂和去离子水组成，其特征在于：采用纳米级磨料，如水溶硅溶胶或金属氧化物AlO、CeO或TiO的水溶胶，其粒径为10～60nm；所占重量百分比为10～40％；抛光液pH值范围为3～6，pH调节剂为盐酸、、柠檬酸和乙酰水杨酸中的一种或其组合。本发明的优点是：该精抛液采用纳米级磨料，对晶片无损伤；由于精抛液呈酸性，因此容易清洗金属离子沾污；且抛光速率快，平整性好。
申请人：天津晶岭电子材料科技有限公司
地址：300457 天津市开发区微电子工业区中晓园2-B号
国籍：CN
代理机构：国嘉律师事务所
代理人：高美岭
更多信息请下载全文后查看
