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一种栅控二极管半导体器件的制造方法[发明专利]

来源:九壹网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种栅控二极管半导体器件的制造方法专利类型:发明专利

发明人:王鹏飞,刘晓勇,孙清清,张卫申请号:CN201210001479.1申请日:20120105公开号:CN102543723A公开日:20120704

摘要:本发明属于半导体器件制造技术领域,具体公开了一种栅控二极管半导体器件的制造方法。本发明中,当栅极电压较高时,栅极下面的沟道是n型,器件就是简单的栅控pn结结构;通过背栅控制ZnO薄膜的有效n型浓度,通过栅极实现将n型ZnO反型为p型,又用NiO作为p型半导体,形成n-p-n-p的掺杂结构。本发明方法工艺过程简单、制造成本低,所制造的栅控二极管器件具有大驱动电流、小亚阈值摆幅的优点,可以降低芯片功耗,而且本发明通过低温工艺生产,特别适用于基于柔性衬底的半导体器件以及平板显示、相变存储器的读写器件的制造中。

申请人:复旦大学

地址:200433 上海市杨浦区邯郸路220号

国籍:CN

代理机构:上海正旦专利代理有限公司

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