专利名称：一种掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法专利类型：发明专利
发明人：藤野诚治,张嵩,王涛,高静,杜小波申请号：CN201510136925.3申请日：20150326公开号：CN104749874A公开日：20150701
摘要：本发明公开了一种掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法，属于显示技术领域。掩膜板包括托盘；所述托盘上具有至少一个掩膜定位槽，每一个所述掩膜定位槽内设置有掩膜。本发明提供的掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法能够有效实现闭环开口的掩膜，提高基板上成膜的质量。
申请人：京东方科技集团股份有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京三高永信知识产权代理有限责任公司
代理人：张所明
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