专利名称：激光反射掩模以及其制造方法专利类型：发明专利
发明人：尹炯列,朴来黄,金秀澯,李赞九,金庸文申请号：CN201080019238.9申请日：20100721公开号：CN102414787A公开日：20120411
摘要：本发明涉及一种激光反射掩模以及其制造方法，更详细地说，涉及下述的激光反射掩模以及其制造方法，其在激光束的反射区域形成预定深度的反射膜填充凹槽的基板上部依次重复层叠具有不同反射率的反射膜之后，通过进行化学机械研磨(Chemical Mechanical Polishing，CMP)工序，或者通过进行利用激光束照射或者蚀刻溶液的剥离(Lift-off)工序，除了填充在反射膜填充凹槽中的部分以外，对层叠在其他区域上的反射膜进行去除，从而形成填充在凹槽中的反射膜图案，使得掩模的制造工序变为容易，同时可以形成精确的图案。
申请人：WI-A株式会社
地址：韩国京畿道
国籍：KR
代理机构：北京天昊联合知识产权代理有限公司
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