专利名称：一种改善滤波器谐波性能的耦合结构及滤波器专利类型：实用新型专利
发明人：何进军,蔡文新,陈鹏,韦俊杰申请号：CN201921066800.8申请日：20190709公开号：CN210111006U公开日：20200221
摘要：本实用新型涉及滤波器技术领域，具体为一种改善滤波器谐波性能的耦合结构及滤波器，该耦合窗口所述耦合窗口设置在介质体的边沿。所述耦合窗口为条形、L型或匚型。耦合窗口沿介质体的中轴线对称分布。所述耦合窗口为主路耦合的耦合窗口或交叉耦合的耦合窗口。本实用新型提供的一种改善滤波器谐波性能的耦合结构及滤波器，能够让谐波远离滤波器通带，减少滤波器的损耗和制造工艺复杂程度，降低成本。
申请人：重庆思睿创瓷电科技有限公司
地址：401346 重庆市巴南区界石镇石桂大道18号10幢3-2
国籍：CN
代理机构：重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙)
代理人：黄书凯
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容