专利名称：一种超薄氮化硼纳米片的制备方法专利类型：发明专利发明人：李伟峰,严泓,龙玉梅申请号：CN201810582663.7申请日：20180607公开号：CN108394915A公开日：20180814
摘要：本发明公开了一种超薄氮化硼纳米片的制备方法。以三聚氰胺为氮源，以硼酸为硼源，通过化学反应获得前驱体；利用所获得的硼酸三聚氰胺，在还原气氛下，经过二步煅烧工艺，制备得到超薄六方氮化硼纳米片产物。按本发明制备方法得到的氮化硼呈二维片状结构，表面富含氨基和羟基等官能团，具有超薄的厚度，可广泛应用于生物、化学、光电物理和材料等多个学科领域。本发明原料易得，成本低廉，合成工艺简单，制备周期短，重复性佳，可批量生产，易于推广。
申请人：苏州大学张家港工业技术研究院,苏州大学
地址：215600 江苏省苏州市张家港市长泾路10号
国籍：CN
代理机构：苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人：陶海锋
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