掩膜板的检测方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN200910195217.1 （22）申请日 2009.09.04

（71）申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

（10）申请公布号 CN102012631A

（43）申请公布日 2011.04.13

（72）发明人 朱瑜杰;陈宏璘;孙强;施春山

（74）专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司

代理人 李丽

（51）Int.CI

G03F1/00; G03F1/14;

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

掩膜板的检测方法

（57）摘要

本发明提供了一种掩膜板的检测方法，包

括步骤：预先根据在掩膜层中形成的光掩膜图形的目标特征尺寸计算目标曝光能量；提供掩膜板和半导体基底，在所述掩膜板上具有开口图形，在所述半导体基底上具有光掩膜层；利用小于目标曝光能量的测试曝光能量，透过掩膜板对所述半导体基底上的部分区域光掩膜层曝光；进行显

影，形成光掩膜图形；对所述光掩膜图形进行检测。本发明可以对掩膜板上的缺陷进行检测。

法律状态

法律状态公告日

2011-04-13 2011-06-01 2012-11-28 2013-04-03

法律状态信息

公开

实质审查的生效

专利申请权、专利权的转移 发明专利申请公布后的驳回

法律状态

公开

实质审查的生效

专利申请权、专利权的转移 发明专利申请公布后的驳回

权利要求说明书

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说明书

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