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两喷一烧低温烧成喷涂工艺[发明专利]

来源:九壹网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:两喷一烧低温烧成喷涂工艺专利类型:发明专利

发明人:李景学,师媛媛,雷庆田,潘雨露,徐其贤,赵辉,王志刚,

陈婕

申请号:CN201310151453.X申请日:20130427公开号:CN103194754A公开日:20130710

摘要:本发明属于搪瓷产品生产制造技术领域,具体涉及一种两喷一烧低温烧成喷涂工艺。本发明是在搪瓷制品生产中,在金属坯上先涂敷底釉,再涂敷面釉,最后再一次性烧成,从而节约一次烧结工序,可有效的降低企业生产成本,提高搪瓷制品的生产效率,节约流程,同时又能够满足国家节能减排的需要。本发明的底釉及面釉中无需添加粘土和各种电解质,烧成的瓷面光洁致密,气孔率低,杂点、异色明显减少,本发明较为完善地改变了传统工艺中排气方向从非搪瓷面逐渐逸出弥散,很难再形成直达搪瓷面的气体通道,避免了类似针孔、气泡等外观缺陷。

申请人:河南金丹搪瓷有限公司

地址:477150 河南省周口市郸城县新华路东段98号

国籍:CN

代理机构:郑州红元帅专利代理事务所(普通合伙)

代理人:杨妙琴

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