光刻胶和光刻机有什么区别

来源：九壹网

1、光刻胶是一种光敏混合液体，由光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他添加剂组成。
2、光刻胶主要用于光刻工艺，其性能和质量对芯片的制程精度和性能起着关键作用。
3、光刻机，又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。
4、它的主要作用是在半导造过程中，通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上。

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